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ABB 100 ULTRA pH/ORP 模擬感測器: APS131.P2.K2.A.01-M5
簡化低電導率應用中的測量:100 ULTRA 無需補充電解液,降低了通常與純水應用相關的維護要求和成本。概述:100 ULTRA 具有大容量內腔,其中包含過飽和電解質基質和大多孔 PTFE 結,可提供更高的測量穩定性和Z小的漂移,可長期測量低至 2 μS/cm。100 ULTRA 感測器提供:提高效率,專有的高性能玻璃器皿配方提供Z高水準的可靠性和回應能力;緊耦合溫度測量即使在溫度快速變化的情況下也能確保高精度;免維護且可靠:飽和KCl基質可在高純度應用中擴展運行,漂移Z小,大型多孔 PTFE 結可減少堵塞和結垢效應,同時提供測量穩定性,堅固的 PVDF 3/4 英寸 NPT 主體具有卓yue的機械和耐化學性,每個電極均按照Z高品質標準製造,並附有校準證書;模組化設計:通用 3/4 英寸 NPT 設計,簡化安裝;提供一系列分離式或整體式佈線選項;數據:測量範圍:pH 0 至 14 Ph;氧化還原 (ORP) –2000 至 2000 mV;工藝溫度:–5 至 100 °C (23 至 212 °F);壓力範圍:0 至 6 bar (90 psi) @ 25 °C (77 °F);推薦的Z小樣品電導率:2 μS/cm;pH玻璃高性能:(S)玻璃(子彈)高性能,(S)玻璃(平面),低溫(LT)玻璃,氧化還原 (ORP):鉑金;參考系統:含 KCl 凝膠電解質的 Ag/AgCl,雙結加離子阱;參考結:多孔 PTFE 和氟橡膠 O 形圈;連接類型:BNC + Molex;標記:VarioPin;過程連接:3/4 英寸NPT;批準、認證和安全:CE 標誌:涵蓋 EMC+LV 指令(包括Z新版本的 EN61010);第 31條飲用水批準:符合 DWI 第 31(4)(b) 條附加測試:所有接液部件的 BS6920 第 2.2 和 2.4 部分;EMC:滿足工業環境的IEC61326要求;CRN 認證;Z大允許工作壓力 (MAWP):5.58 bar (81 psi);設計溫度:-5 ?C 至 + 105 ?C(+23 ?F 至 +221 ?F);CRN 編號 0F22557;服務:ABB 提供quan方位的服務來支援您和您的流程,包括:產品調試;維護和現場服務;維修;備件服務;訓練;探索我們在測量和分析服務中的quan面服務;
等等
ABB 100 ULTRA pH/ORP 模擬感測器: APS131.P2.K2.A.01-M5
簡化低電導率應用中的測量:100 ULTRA 無需補充電解液,降低了通常與純水應用相關的維護要求和成本。概述:100 ULTRA 具有大容量內腔,其中包含過飽和電解質基質和大多孔 PTFE 結,可提供更高的測量穩定性和Z小的漂移,可長期測量低至 2 μS/cm。100 ULTRA 感測器提供:提高效率,專有的高性能玻璃器皿配方提供Z高水準的可靠性和回應能力;緊耦合溫度測量即使在溫度快速變化的情況下也能確保高精度;免維護且可靠:飽和KCl基質可在高純度應用中擴展運行,漂移Z小,大型多孔 PTFE 結可減少堵塞和結垢效應,同時提供測量穩定性,堅固的 PVDF 3/4 英寸 NPT 主體具有卓yue的機械和耐化學性,每個電極均按照Z高品質標準製造,並附有校準證書;模組化設計:通用 3/4 英寸 NPT 設計,簡化安裝;提供一系列分離式或整體式佈線選項;數據:測量範圍:pH 0 至 14 Ph;氧化還原 (ORP) –2000 至 2000 mV;工藝溫度:–5 至 100 °C (23 至 212 °F);壓力範圍:0 至 6 bar (90 psi) @ 25 °C (77 °F);推薦的Z小樣品電導率:2 μS/cm;pH玻璃高性能:(S)玻璃(子彈)高性能,(S)玻璃(平面),低溫(LT)玻璃,氧化還原 (ORP):鉑金;參考系統:含 KCl 凝膠電解質的 Ag/AgCl,雙結加離子阱;參考結:多孔 PTFE 和氟橡膠 O 形圈;連接類型:BNC + Molex;標記:VarioPin;過程連接:3/4 英寸NPT;批準、認證和安全:CE 標誌:涵蓋 EMC+LV 指令(包括Z新版本的 EN61010);第 31條飲用水批準:符合 DWI 第 31(4)(b) 條附加測試:所有接液部件的 BS6920 第 2.2 和 2.4 部分;EMC:滿足工業環境的IEC61326要求;CRN 認證;Z大允許工作壓力 (MAWP):5.58 bar (81 psi);設計溫度:-5 ?C 至 + 105 ?C(+23 ?F 至 +221 ?F);CRN 編號 0F22557;服務:ABB 提供quan方位的服務來支援您和您的流程,包括:產品調試;維護和現場服務;維修;備件服務;訓練;探索我們在測量和分析服務中的quan面服務;
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